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公司簡介
CHIPNOVA超新芯是早期原位芯片及技術開拓人創(chuàng)辦的高新技術企業(yè)，致力于原位電鏡技術的發(fā)展及應用開拓，一直與UCBerkeley、廈大等高校和科研單位緊密合作。公司同時擁有芯片制造和原位技術兩方面的資深技術團隊，已通過ISO9001質量管理體系認證。特制的芯片潔凈室和豐富的檢測設備不斷提升芯片制造水平，包括原位電鏡芯片、生化分析醫(yī)療芯片、集成傳感芯片等。其中的原位電鏡芯片業(yè)界優(yōu)秀，在晶體生長、材料、能源、催化、環(huán)境、化學、生物等領域應用廣泛，在高檔次期刊發(fā)表論文近200篇：Science3篇、CNS子刊等，服務包括北大、清華、浙大等眾多頂尖高校及科研院所，并不斷推動這些領域的科技進步。
一、TEM液體多功能集成樣品桿（熱-電-光）Spring Series In Situ Holder
Spring Series In Situ Holder是在原位樣品臺內部構建小型的液體環(huán)境芯片實驗室，在液體環(huán)境內對材料進行原子分辨高時空精度分析。根據客戶需求，結合MEMS微加工工藝，內置加熱模塊、光學模塊和電學模塊，結合透射電鏡成像系統(tǒng)，實現對單個納米材料在熱、光、電外場刺激條件下的形貌結構、化學組分、元素價態(tài)的原位動態(tài)觀測，極大擴展了透射電鏡的功能與應用領域。
圖1 TEM液體多功能集成樣品桿示意圖
原位液體多功能集成樣品臺（光-電-熱）可在透射電鏡中實現液體樣品的電化學反應/加熱過程/光學反應過程的實時動態(tài)高分辨成像。
技術指標：
1) 與主流TEM兼容，兼容STEM，SAED，EELS，EDS等功能；
2) 液體流速可控，0~50 μL/s，流速低至5 nL/s；
3) 超薄氮化硅膜視窗（可達10nm），液體夾層?。?00-200nm），最高可達皮米級別分辨率；
4) 流道采用惰性材料防腐設計，并利用納流體微分控制方式防滲漏，安全性高；
5) 電化學實驗采用三電極方式，包括工作電極、參比電極、對電極，通過連接電化學工作站，進行電化學阻抗譜，循環(huán)伏安法，計時電流法，循環(huán)極化，充/放電測試及分析；
6) 電極材質：金、鉑、碳等；
7) 溫度范圍：RT~液體氣化溫度；
8) 溫度穩(wěn)定性：≤±0.01 ℃（穩(wěn)定狀態(tài)）；溫度精確度：>99%；溫度均勻度：>99.50%；
9) 加熱模塊采用金屬加熱絲，升溫降溫速度快，既是熱導材料，又是熱敏材料，其電阻與溫度有良好的線性關系。金屬加熱絲由被惰性SiNx膜包裹，不與樣品發(fā)生反應；
10) 定制光源波長可選擇紫外-可見光-紅外(185-2200nm)或8個定波段的單色光，或者單波長激光光源；
11) 光源輻照強度：≥150 mW/cm2；
12) 采用大功率氙燈、LED集成燈或激光器，光源響應時間短，且光源強度穩(wěn)定。
應用案例：
金納米粒子原子分辨液相動態(tài)成像TEM（a）STEM （b）
光催化析氫過程觀察活性位點原位生成過程
Real time imaging of photocatalytic active site formation during H2 evolution by in-situ TEM[J]. Applied Catalysis B: Environmental, 2021, 284: 119743.
流體流動及擴散對晶體生長形貌影響觀察
Efficient CO2 reduction MOFs derivatives transformation mechanism revealed by in-situ liquid phase TEM[J]. Applied Catalysis B: Environmental, 2022, 307: 121164.
光照下環(huán)境氛圍對納米團簇演變過程影響
Visualizing light-induced dynamic structural transformations of Au clusters-based photocatalyst via in situ TEM[J]. Nano Research, 2021, 14(8): 2805-2809.
二維材料液相合成新生長模式的發(fā)現：三維生長和原子層剝離
Atomic Scale Tracking of Single Layer Oxide Formation: Self‐Peeling and Phase Transition in Solution[J]. Small Methods, 2021, 5(7): 2001234.
二、TEM多功能雙傾樣品桿
Volcano Series In Situ Holder針對快速變溫過程原位高分辨研究需求構建的原位觀察平臺，根據客戶需求結合MEMS微加工工藝內置加熱模塊、電學模塊和光學模塊，通過對樣品的外場控制完成熱學、電學及光學性質的研究。
Chip-Nova TEM Double tilt Holder(Optics/Biasing/Heating) 多功能雙傾樣品桿（光、電、熱）系統(tǒng)，同時涵蓋原位雙傾功能模塊、光學功能模塊、電學功能模塊、加熱功能模塊，可在透射電鏡中實現固體樣品微結構變化的原位表征。在原位雙傾轉角功能的基礎上，通過開創(chuàng)性的將光作為外部條件搭載在原位樣品臺系統(tǒng)上，結合MEMS微納加工制作的超低飄移微區(qū)加熱芯片，實現全新的雙傾-光-電-熱四功能耦合，在操作α/β角度轉動的同時，可同時引入光場刺激、電場刺激、熱場刺激，各功能模塊可同時在線工作并且相互獨立，互不干擾。
圖 TEM多功能雙傾樣品桿示意圖
技術指標：
1) 樣品臺體材質：高強度鈦合金；
2) 電極數：4；
3) 視窗膜厚：無膜（樣品懸空）或25nm氮化硅；
4) 穩(wěn)定漂移率＜1.5nm/min；
5) 傾轉角：α≥±25°，β≥±25°（實際范圍取決于極靴型號）；
6) 溫度范圍：RT~1300 ℃；
7) 溫度穩(wěn)定性：≤±0.01 ℃（穩(wěn)定狀態(tài)）；溫度精確度：>99%；溫度均勻度：>99.50%；
8) 光源波長：紫外-可見光-紅外；
9) 光源輻照強度：≥150 mW/cm2；
10) 光纖接口：高精密度的SMA連接器；
11) 電學模塊（pA-mA，普通模式±10V，高壓模式±200 V）；
12) 電場強度：≥400 kV/cm；
13) 適用電鏡：ThemoFisher/FEI，JEOL，Hitachi；
14) 適用極靴：ST，XT，T，BioT，HRP，HTP，CRP；
15) (HR)TEM/STEM支持；
16) (HR)EDS/EELS支持升溫過程及高溫檢測。
應用案例：
1300℃恒溫，金屬合金擴散，芯片溫度穩(wěn)定性好，漂移率低
室溫-1000℃變溫過程MOF材料碳化研究
三、原位TEM力學樣品桿 Gravity Series In Situ Holder
廈門超新芯科技有限公司所研發(fā)生產的透射電鏡原位高溫力學系統(tǒng)是通過在原位樣品桿內置力學測量模塊、三維納米運動模塊、原位加熱芯片，可對材料進行應力及熱場條件下原子分辨高時空分析。通過該系統(tǒng)，在透射電鏡中通過納米探針或者原位芯片對樣品進行操縱和拉應力、壓應力測量。并且在測量樣品壓力同時實現對樣品1000℃的加熱，在高溫力學測量的同時，能夠動態(tài)、高分辨地對樣品的晶體結構、組分進行綜合表征。
具備的功能包括：原位壓縮微納試樣進行應力應變曲線監(jiān)測；原位拉伸微納試樣進行應力應變曲線監(jiān)測；具有超高精度和靈敏度的力學參數和應變量測試能力，能準確得到定量的載荷和位移的數據，且具有*的穩(wěn)定性。特色功能：恒定載荷控制功能，以適用于材料的蠕變特性研究；恒定位移控制功能，以適用于材料的應力松弛的研究。
圖 原位TEM力學樣品桿示意圖
技術指標：
桿體材質：高強度鈦合金；
控制方式：高精度壓電控制；
最大載荷：150 mN；
力學測量分辨率：＜10 nN；
粗調X/Y/Z范圍：±2 mm；
粗調精度：1.25 μm；
細調范圍X/Y/Z：X：8 μm，Y、Z：±5 μm；
細調位移分辨率：0.2 nm；
(HR)TEM/STEM支持；
(HR)EDS/EELS支持；
溫度測量范圍：室溫—1000℃；
控溫精度：±0.1 ℃；
漂移率：1.5 nm/min（恒溫狀態(tài)下）
應用案例：
納米碳球壓縮原位力學實驗
鎢納米棒原位壓縮過程
